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GX-1000大氣等離子體表面處理設備設計思路，國興技術講到實際上，低溫等離子體對物件進行處理的過程中，等離子氣體中的各種正負離子、高能量並高速運動著的電子、重粒子等都會對被處理材料表面發(fā)生物理反應和化學反應，所以上面所提及的低溫等離子體表面處理的四種（或五種）作用通常都會同時產生。
根據(jù)客戶對材料表面清潔處理要求，該低溫等離子體處理方案的設計開發(fā)和處理裝置設計目的主要是對材料進行表面清潔和表面活化，增加表面清潔度和材料的親水性，這是本項目設計中必須考慮的前提。
裝置設計中，要考慮到可以滿足放置較多的材料同時處理，以滿足批量生產的效率，該處理裝置處理效果的整體均勻性也是必須重點考慮的充要條件。
在保證滿足以上處理效果和要求的前提下，該裝置的設計還必須考慮有良好的性能價格比和安全可靠、經久耐用，儘量減少日常的維護成本。
本方案等離子體表面處理裝置的原理圖
GX-1000大氣等離子體表面處理設備設計的時候主要從以下幾個方面：
物體表面清潔處理方法
我們知道在真空等離子腔體內，物體經過射頻電源在必定的壓力情況下發(fā)生高能量的無序的等離子體，經過等離子體清洗產品表面，以到達清潔目的。
物體表面活化處理方法
經過等離子外表處理機過後的物體，增強了外表能，親水性，進步粘合度，附著力。
物體表面刻蝕處理辦法
資料外表經過反應氣體等離子被選擇性地刻蝕，被刻蝕的資料轉化為氣相並被真空泵排出，處理後的資料微觀比外表積增加並具傑出親水性。
