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揚州江都區(qū)國興技術等離子表面處理整體解決方案詳解說明如下：
第一，首先我們來了解等離子體的基本概述。利用外加電場或高頻感應電場使氣體導電，稱為氣體放電。氣體放電是產(chǎn)生等離子體的重要手段之一。被外加電場加速的部分電離氣體中的電子與中性分子碰撞，把從電場得到的能量傳給氣體。電子與中性分子的彈性碰撞導致分子動能增加，表現(xiàn)為溫度升高；而非彈性碰撞則導致激發(fā)（分子或原子中的電子由低能級躍遷到高能級）、離解（分子分解為原子）或電離（分子或原子的外層電子由束縛態(tài)變?yōu)樽杂呻娮樱?。高溫氣體通過傳導、對流和輻射把能量傳給周圍環(huán)境，在定常條件下，給定容積中的輸入能量和損失能量相等。電子和重粒子（離子、分子和原子）間能量傳遞的速率與碰撞頻率(單位時間內碰撞的次數(shù))成正比。
第二，等離子體處理的的原理是怎樣的呢？等離子體是物質的一種存在狀態(tài)，通常物質以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在，但在一些特殊的情況下有第四中狀態(tài)存在，如地球大氣中電離層中的物質。
第三，等離子體狀態(tài)中存在下列物質：處于高速運動狀態(tài)的電子；處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團（自由基）；離子化的原子、分子；未反應的分子、原子等，但物質在總體上仍保持電中性狀態(tài)。
第四，等離子處理技術是等離子體特殊性質的具體應用：等離子處理系統(tǒng)產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設置兩個電極形成電場，用真空泵實現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體愈來愈稀薄，分子間距及分子或離子的自由運動距離也愈來愈長，受電場作用，它們發(fā)生碰撞而形成等離子體，這些離子的活性很高，其能量足以破壞幾乎所有的化學鍵，在任何暴露的表面引起化學反應，不同氣體的等離子體具有不同的化學性能，如氧氣的等離子體具有很高的氧化性，能氧化光刻膠反應生成氣體，從而達到清洗的效果；腐蝕性氣體的等離子體具有很好的各向異性，這樣就能滿足刻蝕的需要。
第五，等離子清洗機有幾種稱謂，英文叫（Plasma Cleaner）又稱等離子體清洗機,等離子清洗器,等離子清洗儀,等離子刻蝕機，等離子表面處理機,電漿清洗機，plasma清洗機，等離子去膠機，等離子清洗設備。等離子清洗機/等離子處理機/等離子處理設備廣泛應用于等離子清洗、等離子刻蝕、等離去膠、等離子涂覆、等離子灰化、等離子處理和等離子表面處理等場合。通過其等離子表面處理，能夠改善材料表面的潤濕能力，使多種材料能夠進行涂覆、涂鍍等操作，增強粘合力、鍵合力，同時去除有機污染物、油污或油脂。
第六，本方案等離子體表面處理裝置的組成：等離子體表面處理裝置由反應腔體（又稱真空腔體）、真空系統(tǒng)、等離子體發(fā)生系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、進氣流量控制系統(tǒng)等組成?？紤]到生產(chǎn)操作的簡便和效率，被處理材料的邊料節(jié)約以及該處理裝置的性價比，本裝置擬考慮采用水平式放置結構。反應腔由真空室、平板式電極組成，是等離子體（Plasma）處理反應的有效空間，待處理物品水平置于反應腔內并可以設計成多層結構便于大批量作業(yè)；真空系統(tǒng)由真空閥門、真空泵以及真空管路、真空系統(tǒng)控制執(zhí)行元件等組成，負責將反應腔內的空氣抽至預先的設定值并在工作時維持相應的真空度；考慮到本裝置被處理材料要求清潔和活化作用，故本裝置的等離子體發(fā)生源擬采用波形經(jīng)過特殊處理的、具有高速震蕩功能的等離子體發(fā)生源，該系統(tǒng)源為反應腔提供等離子體能量，以激發(fā)反應腔內的被反應氣體急劇震蕩電離，形成所需要的具有清潔能力的等離子體（Plasma）；電控系統(tǒng)的作用是按照預設的工藝參數(shù)和步驟，智能最優(yōu)自動控制該裝置的工藝流程的全過程，并能自整定維持工藝參數(shù)的穩(wěn)定性；工藝反應氣體進氣流量控制系統(tǒng)主要由質量流量計和自控電磁閥門組成，其作用是精確控制反應氣體的進氣量，并維持工作期間所需要的真空度值。
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